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一种深硅刻蚀工艺的制作方法_2本发明属于微电子加工技术领域，具体涉及一种深硅刻蚀工艺。背景技术干法等离子体深硅刻蚀工艺逐渐成为MEMS加工领域和TSV技术中炙手可热的工艺之一。所谓深硅刻蚀工艺是指刻蚀深度要求一般为几十微米甚达到上百微米的刻蚀工艺，而一般的硅刻蚀工艺是指刻蚀深度要求小于1微米的刻蚀
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产品-方需科技-超声波清洗仪主要应用： 超声波细胞磨粉仪，又别名：粉碎机、萃取仪、分散仪、均质机、乳化机；是实验室样品前处理的常用设备之一；广泛应用于： 复合材料制备（纳米材料分散）、 生命科学（细胞破壁萃取和粉碎）、制药（中草药和植物萃取）、 环境科学（土壤有机物的萃取）、污水处理（降解COD
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